北京大学深圳MGM美高梅研究生院,助理教授、博士生导师。深圳市海外高层次人才(c类)。国际电气与电子工程师学会IEEE会员,国际信息显示学会SID会员。苏州大学微电子系学士及硕士(导师:王明湘教授),香港科技大学电子及计算机工程系博士(导师:王文 教授)。2015年至2017年,任香港科大电子计算机工程系MGM美高梅研究员、赛马会-香港科大高等MGM美高梅研究院Postdoctoral Fellow(合作教授:郭海成 院士)。2017年至2019年,任香港科大MGM美高梅研究助理教授,同时荣聘为高等MGM美高梅研究院Junior Fellow(合作教授:邓青云 院士)。2019年6月起加入北京大学深圳MGM美高梅研究生院信息美高梅登录。MGM美高梅研究领域包括:半导体器件,如金属氧化物薄膜晶体管、肖特基二极管;先进显示技术,如超高像素密度的OLED蒸镀罩;柔性电子及传感器系统,如基于金属氧化物半导体的柔性传感器系统。在微电子顶级国际期刊和会议上发表论文100余篇,其中SCI期刊53篇。同时还积极谋求产学结合,已经以第一发明人申请中、美、国际专利31项,其中已授权15项。
超大规模集成电路工艺、柔性电子的技术与应用
代表性期刊:
1. H. Yang, X. Zhou, L. Lu, and S. Zhang, “Investigation to the Carrier Transport Properties in Heterojunction-Channel Amorphous Oxides Thin-Film Transistors Using Dual-Gate Bias,” IEEE Electron Device Lett., pp. 1–1, 2022, doi: 10.1109/LED.2022.3223080.
2. P. Wang et al., “Synergistically Enhanced Performance and Reliability of Abrupt Metal‐Oxide Heterojunction Transistor,” Adv. Electron. Mater., p. 2200807, Oct. 2022, doi: 10.1002/aelm.202200807.
3. Zhou, Jitong, Wengao Pan, Dawei Zheng, Fayang Liu, Guijun Li, Xianda Zhou, Kai Wang, Shengdong Zhang, and Lei Lu*. 2022. “Self-Stabilized Hydrogenation of Amorphous InGaZnO Schottky Diode with Bilayer Passivation.” Advanced Electronic Materials 2200280:1–9. doi: 10.1002/aelm.202200280.
4. Jiye Li, Yuqing Zhang, Jialiang Wang, Huan Yang, Xiaoliang Zhou, Mansun Chan, Xinwei Wang, Lei Lu*, and Shengdong Zhang. 2022. “High-Performance Self-Aligned Top-Gate Amorphous InGaZnO TFTs With 4 Nm-Thick Atomic-Layer-Deposited AlOx Insulator.” IEEE Electron Device Lett.,43(5):729–32. doi: 10.1109/LED.2022.3160514.
5. J. Zhou, Y. Wang, X. Zhou, G. Li, Z. Xia, F. S. Y. Yeung, M. Wong, H. S. Kwok, S. Zhang, L. Lu*, “Reliable High-Performance Amorphous InGaZnO Schottky Barrier Diodes With Silicon Dioxide Passivation Layer,” IEEE Electron Device Lett., vol. 42, no. 9, pp. 3381–1341, 2021. DOI: 10.1109/LED.2021.3095921
6. Fayang Liu, Yuheng Zhou, Huan Yang, Xiaoliang Zhou, Xiaohui Zhang, Guijun Li, Meng Zhang, Shengdong Zhang, and Lei Lu*. 2021. “Roles of Hot Carriers in Dynamic Self-Heating Degradation of a-InGaZnO Thin-Film Transistors.” IEEE Electron Device Letters IEEE Electron Device Lett., vol. 43, no. 1, pp. 40–43, 2022. DOI: 10.1109/LED.2021.3133011
7. X. Zhou#, L. Lu#, Jin Wei, Yang Liu, K. Wang*, M. Wong, J. K. O. Sin, and H.-S. Kwok,, “Extracting the Critical Breakdown Electrical Field of Amorphous Indium-Gallium-Zinc-Oxide from the Avalanche Breakdown of n-Indium-Gallium-Zinc-Oxide/p+-Nickel-Oxide Heterojunction Diode,” IEEE Electron Device Lett., vol. 41, no. 7, pp. 1017–1020, 2020. DOI: 10.1109/LED.2020.2996242
8. H. Peng, B. Chang, H. Fu, H. Yang, Y. Zhang, X. Zhou, L. Lu*, S. Zhang*, “Top-Gate Amorphous Indium-Gallium-Zinc-Oxide Thin-Film Transistors With Magnesium Metallized Source/Drain Regions,” IEEE Trans. Electron Devices, vol. 64, no. 7, pp. 1619–1624, 2020. DOI: 10.1109/TED.2020.2975211
9. L. Lu#*, Z. Feng#, S. Wang, J. Li, Z. Xia, H. Kwok, and M. Wong, “Fluorination-Enabled Monolithic Integration of Enhancement- and Depletion-Mode Indium-Gallium-Zinc Oxide TFT,” IEEE Electron Device Lett., vol. 39, no. 5, pp. 692–695, 2018. DOI: 10.1109/LED.2018.2818949
10. L. Lu*, Z. Xia, J. Li, Z. Feng, S. Wang, H. Kwok, and M. Wong, “A Comparative Study on Fluorination and Oxidation of Indium-Gallium-Zinc Oxide Thin-Film Transistors,” IEEE Electron Device Lett., vol. 39, no. 2, pp. 196–199, 2018. DOI:10.1109/LED.2017.2781700
代表性专利:
[1] 郑大伟,陆磊,张盛东,王云萍,严建花,蔡泽宇,“一种肖特基二极管及其制造方法”,中国发明专利申请CN202210872263.6,2022年7月20日。
[2] 郑大伟,陆磊,张盛东,王云萍,严建花,蔡泽宇,“一种肖特基二极管及其制造方法”,中国发明专利申请CN202210857220.0,2022年7月20日。
[3] 陆磊,孙博文,李吉业,王云萍,“透气导电材料、制造方法、半导体器件以及双栅TFT器件”,中国发明专利申请202210618717.7,2022年6月1日。
[4] 王鹏飞,陆磊,王云萍,杨欢,周晓梁,张盛东,“一种异质结结构、半导体器件结构及其制造方法”,中国发明专利申请202210411896.7,2022年4月19日。
[5] 刘发扬,陆磊,张盛东,王云萍,周晓梁,“双栅结构的半导体场效应晶体管及其制造方法”,中国发明专利申请202111286452.7,2021年11月2日。
[6] 陆磊,张盛东,焦海龙,张敏,周航,周雨恒,王云萍,“一种应用于柔性薄膜晶体管阵列的结构”,中国发明专利ZL 2020 1 1592468.6,授权,2023年02月03日。
[7] 陆磊,周玮,王文,郭海成,“Integration of Silicon Thin-Film Transistors and Metal-Oxide Thin-Film Transistors”,美国专利10,504,939 B2,授权,2017年2月20日。
[8] 陆磊,王文,郭海成, “全面屏结构以及用于屏下摄像头的OLED显示面板”,中国实用新型专利ZL 2021 2 2197756.8,授权,2021年9月13日。
[9] 李佳鹏,陆磊,王文,郭海成, “一种薄膜晶体管和显示器面板”,中国实用新型专利ZL 2017 2 1522557.7,授权,2017年11月15日。
[10] 陆磊,王文,郭海成,“一种显示器面板”,中国实用新型专利ZL 2016 2 1188654.2,授权,2016年10月28日。
[1] 2022年11月至2025年10月:柔性双栅氧化物TFT器件与电路MGM美高梅研究,项目来源:国家科学技术部-国家重点研发计划-青年科学家项目,主持
[2] 2021年12月至2025年11月:高性能氧化物TFT 材料与关键技术研发及产业化——“高性能氧化物TFT 技术研发”子课题,项目来源:国家科学技术部-“十四五”国家重点研发计划-重大共性关键技,参与
[3] 2020年1月至2022年12月:金属氧化物薄膜晶体管的迁移率和可靠性的耦合模型和联合优化的MGM美高梅研究,项目来源:国家自然科学基金-青年科学基金项目,主持
[4] 2019年10月至2021年9月:金属氧化物薄膜晶体管在光电应力下的退化模型MGM美高梅研究,项目来源:广东省自然科学基金-面上项目,主持
[5] 2021年1月至2023年12月:低温多晶硅/氧化物半导体的三维混合集成的关键技术MGM美高梅研究,项目来源:深圳市科技创新委员会-高等院校稳定资助—基础MGM美高梅研究专项(自然科学基金),主持
[6] 2020年9月至2022年9月:面向大面积色转换RGB-OLED显示的柔性氧化物背板技术MGM美高梅研究项目来源:深圳市科技创新委员会-深港联合资助项目,主持
[7] 2020年5月至2023年5月:面向下一代大尺寸显示应用的金属氧化物薄膜晶体管的MGM美高梅研究,项目来源:深圳市科技创新委员会-基础MGM美高梅研究面上项目,主持
[8] 2022年11月至2024年10月:基于氧化物薄膜晶体管的屏内指纹探测技术MGM美高梅研究,项目来源:2022深港联合资助项目(A类)- 协同创新专项,参与
[9] 2022年11月至2025年10月:重2022N079 面向碳化硅电力电子器件的激光合金退火改质设备研发,项目来源:2022深圳市科技计划项目-技术攻关重点项目,参与
[10] 2020年11月至2023年11月:金属氧化物薄膜晶体管的柔性电路设计关键技术MGM美高梅研究项目来源:深圳市科技创新委员会-基础MGM美高梅研究(重点项目),参与
1、专业范围: 微电子学,物理,电子信息科学与技术;
2、外语能力:英文六级或托福80、雅思6.0以上;
3、具有独立思考和勤奋坚韧的品格,对探索知识的边界、解决工程的挑战感兴趣。